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用於7奈米以下製程!中國工博會上海新創廠商展出EUV樣機
正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上,一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光(EUV)微影設備樣機。 美國對中國實施先進技術出口管制,中國則由政府主導突破限制。...…
媒體來源:自由 - 2026-10-15 22:34:13 (26 天前)
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