中國版「曼哈頓計畫」打造出EUV原型機 半導體技術差距縮短一半

路透社17日披露,中國政府招募多名前荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)前工程師,透過逆向工程方式,在深圳一處高度戒備的實驗室內,成功打造出半導體製造關鍵設備「極紫外光機」(EUV)的原型機。這項進展震撼西方,EUV長期以來被視為科技冷戰的核心技術,也是美國多年來試圖全面阻止中國取得的先進製程關鍵。
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路透社17日披露,中國政府招募多名前荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)前工程師,透過逆向工程方式,在深圳一處高度戒備的實驗室內,成功打造出半導體製造關鍵設備「極紫外光機」(EUV)的原型機。這項進展震撼西方,EUV長期以來被視為科技冷戰的核心技術,也是美國多年來試圖全面阻止中國取得的先進製程關鍵。 《詳全文...》