美國新創公司Substrate宣稱，已成功研發出一款能與荷蘭艾司摩爾（ASML）最先進曝光機匹敵的晶片製造設備，企圖挑戰ASML與台灣台積電（TSMC）在全球半導體產業的雙強地位。這項技術若能商轉，可能改變美國晶片產業版圖，並牽動全球科技供應鏈。 《詳全文...》