中國半導體設備發展備受關注，根據高盛最新報告，中國的光刻機技術水準目前僅停留在65奈米，與美國及歐洲領先企業相較，落後至少20年。光刻技術是晶片製造中不可或缺的關鍵環節，而荷蘭ASML公司生產的先進設備更是全球高階晶片量產的核心。由於ASML的光刻機大量採用美國原產零組件，美方得以限制這些機器出口至中國，導致中國高階晶片製造能力受限。 《詳全文...》