吳孟峰／核稿編輯 〔財經頻道／綜合報導〕根據外資高盛最新發布的研究報告，中國在半導體製造關鍵環節的曝光機研發仍存在瓶頸，曝光機技術目前仍停留在65奈米程度，至少落後荷蘭艾斯摩爾（ASML）20年...…