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艾司摩爾:2030推出Hyper-NA EUV 晶片密度限制再縮小
《EE Times》報導,艾司摩爾(ASML)再度宣佈新曝光機計畫,預定2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(EUV),將縮小最高電晶體密度晶片的設計限制。 艾...…
媒體來源:自由 - 2024-06-15 07:01:51 (107 天前)
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